当前位置:首页 > 云顶yd222线路检测官方网页 > 薄膜制备全套设备 > 双靶磁控溅射仪 > VTC-600-2HD型双靶磁控溅射仪
简要描述:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。
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技术参数
结构 | |
输入电源 |
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溅射电源 |
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磁控溅射头 |
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头,订购前需于本公司销售人员 |
真空腔体 |
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载样台 |
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气体流量控制器 |
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真空泵系统 | 配有一套分子泵系统(德国制作),采用一键式操作 |
薄膜测厚仪 |
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外形尺寸 | L1300mm× W660mm× H1200mm |
重量 | 160 kg |
质保期 | 一年质保期,终生维护 |
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