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1英寸高真空磁控溅射头--HVMSS-SPC-1-LD

简要描述：HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

  • 产品型号：
  • 厂商性质：生产厂家
  • 更新时间：2024-10-21
  • 访  问  量：2810
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详细介绍

    HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

 

技术参数

特点

?

  • 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
  • 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布
  • 磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命
  • 标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
  • 安装是采用标准真空接头，便于操作
  • 更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度
  • 配有一块铜靶

溅射头

 

（点击图片查看详细资料）

  • 溅射头的直径:46.3mm
  • 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
  • 靶材的zui大厚度: 1/8" (3mm) 
  • 磁环:NdFeB稀土永磁铁      
  • 杆的直径:      3/4" O.D.

 

所需功率

DC (zui大) 250 W

RF （zui大）100 W

zui大阴极溅射电流

3A

阴极溅射电流

200 - 1,000 V

可选压力范围

~1 mTorr 至1 Torr

溅射厚度均匀性图

 

  • 注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：
  • 功率：直流150W
  • 真空环境：10mTorr(Ar)
  • 靶材与基片的距离：75mm

水冷却

  • 所需水流量： 1/2 GPM
  • 进水温度：<20 C
  • 水管接头：0.25" O.D快插头

接头

  • 电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配
  • 本公司会赠送一高真空快速接头
  • 此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸
     

 

产品长度

14英寸（355.6mm)

产品重量

1.36kg

倾斜装置

  • 溅射头相对于杆zui大可倾斜+/- 45度
  • 倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度

可选配件

  • 循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L
  • 本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪

质保期

一年质保期终生维护

应用

  • 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：
  • 薄膜涂覆
  • 半导体器件
  • 磁记录介质
  • 超导薄膜
  • 量子计算器件
  • MEMS
  • 生物传感器
  • 纳米技术
  • 超晶格
  • 颗粒膜
  • 记忆合金
  • 组合薄膜沉积
  • 光学薄膜

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