箱式炉采用双层外壳结构和PID程序控温系统，移相触发，可控硅控制。该炉采用氧化铝多晶纤维材料制成，双层炉壳之间装有风冷系统，可快速升降温。外壳整体密封，盖板用硅胶泥密封，炉门用硅胶垫片密封，气体通过流量计后进出后室。多炉进出口，可预抽真空，可通氩、氮气、氧气、惰性气体等。炉具有温度场平衡、表面温度低、升降温速度快、节能等优点，是大专院校、科研院所、工矿企业进行气氛保护烧结和气氛还原的理想产品。1、可接触气体：所有惰性气体、氮气、氩气、氧气、二氧化碳、水蒸气等。2、外观设计：采...

管式炉是在沉底材料上生长优质石墨烯、碳纳米管和碳化硅的专用设备，广泛应用于半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、涂层等新材料和新工艺。它在使用前需要做好哪些准备工作呢？1、设计温度升降曲线。升温速率不得高于10℃/min，降温速率应低于15℃/min。2、清洁环境。3、每周开始使用时，检查机械泵油路是否在标线以上，取下两端盖板，用吸尘器清洁刚玉炉管。4、将样品舟推入刚性管式炉中间（恒温长度10cm）。5、塞住两个绝缘炉塞，使第二个炉塞的末端与炉体侧面齐平。6、安装燃气炉法兰，确认...

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀...

喷涂一直存在于云顶yd222线路检测中心首页的生活中，长期以来被用于多种用途，包括喷涂装饰性和保护性涂料。因此，它是材料科学家制备薄膜的又一工具。在喷涂中，喷嘴尺寸、喷涂形状、喷嘴到基材的距离、喷涂速度和喷涂过程中基材的加热都是可控的参数，以达到理想效果。使用超声波雾化模块，可使喷雾溶液均质化，雾滴大小得到有效控制（喷嘴频率会影响雾滴大小），可分布微雾量，从而保证成分和结构的均匀性和所得薄膜和图案的准确性。材料浪费保持在低限度，设备操作人员的风险很小。超声波雾化模块的工作原理是利用超声波换能器将高频声...

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长。磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成...

直流等离子磁控溅射镀膜仪是一种小型直流（DC）等离子磁控溅射镀膜系统，该系统包括所有必需的附件，如500W（600V）直流电源、2英寸磁控溅射头、石英真空室、真空泵和温度控制器。主要由溅射真空室、磁控溅射靶材、样品台、工作气路、抽气系统、安装机和真空测量装置组成。高真空溅射可用于制备金属、半导体、绝缘体等薄膜材料。具有设备简单、易控制、涂布面积大、附着力强等优点，可用于大专院校和科研院所的薄膜材料的研究和制备。直流等离子磁控溅射镀膜仪溅射镀膜的原理是异常辉光放电中的稀有气体产...

采用新型保温材料的箱式炉具有体积小、重量轻、保温效果好、升温速度快等优点。面板材质为不锈钢；外形美观，操作简单，维护方便，炉后设有可控烟囱；适用于煤、焦化产品和化工原料的化学分析。五面加热（左、右、前、后、下）可获得均匀的温度场。1、双热电偶双仪表控温检测，确保不发生超温实验事故。2、炉膛材料采用高纯氧化铝纤维（表面涂有美国进口高温氧化铝涂层，可提高加热效率、反射率、炉膛清洁度，延长使用寿命）。3、采用双层壳体结构和风冷系统，使壳体表面温度低于60℃。4、炉体顶部有排气孔，可...