1100℃微型箱式炉采用电阻丝作为加热元件，K型热电偶和30段可编程温度控制器。下拉式炉门结构，方便客户放样；炉体采用氧化铝微晶纤维。温度可达1100℃，可连续工作1000℃，控温精度±1℃；能耗500W还配备通风接口，可在氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场平衡、升降温速度快、节能等优点，此外，该设备还可置于手套箱内，在真空和可控气氛下进行样品燃烧，是大专院校、科研院所及工矿企业进行高温烧结、金属退火及质量检测的理想产品。电阻丝为发热体，采用双层...

箱式炉主要供合金钢制品、各种金属机件正火、淬火、退火等热处理之用，或金刚石等切割刀片进行高温烧结用途。广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材等领域的生产及实验。热电偶将炉温转变成电压信号后，加在微电脑温度控制调节仪上。调节仪将此信号与程控设定相比较，输出一个可调信号。再用可调信号控制触发器，再有触发器触发调压器，达到调节电炉电压和电炉温度的目的。箱式炉的维护注意事项1.炉子使用或长时间不用后，要在120℃左右烘烤1小时，在300℃左右...

1200℃开启式管式炉具有基础温度低、沉积速度快、成膜质量好、针孔少、不易开裂等优点；在此过程中，由于等离子体中的高速电子撞击中性反应气体分子，中性反应气体分子会变成碎片或处于活化状态，容易发生反应；在射频的帮助下，含有薄膜原子的气体在局部形成等离子体，等离子体具有很强的化学活性，易于反应在基板上沉积所需的薄膜；高真空系统由两级旋片真空泵和分子泵组成，真空度可达0.001pa；数字质量流量控制系统由多通道质量流量计和流量显示仪表组成，实现气体流量的精确测量和控制；每条燃气管道...

管式炉主要运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，磨具等行业，测定材料在一定气温条件下的专业设备。炉型结构简单，操作容易，便于控制，能连续生产。管式炉使用的注意事项注意一电炉操作工应具备国家相应电气设备操作资格，并熟读随机仪表说明书等技术文件!温度系统操作:用户开关板给电炉送电，此时程序表得电，按温度仪表(如右图)说明书设定仪表(如P、I、D参数)，按工艺要求编制加热程序，打开加热旋钮,使加热功率到达6KW。加热功率可按下式计算:加热功率=仪表电压×仪表电流正常加热...

就像把石头扔进平静的湖水会溅出水一样，用高速离子轰击固体表面会使近表面的原子（或分子）从固体表面逃逸。这种现象称为溅射现象。溅射意味着具有足够高能量的粒子轰击固体表面以发射原子。早期的人们认为，这种现象源于目标的局部加热。然而，人们发现溅射和蒸发有本质区别，人们逐渐认识到溅射是轰击粒子与靶粒子之间动量传递的结果。小型磁控射频溅射镀膜仪磁控溅射利用磁场束缚电子的运动，提高电子的电离率。与传统溅射相比，具有“低温”和“高速”两大特点。磁控射频溅射镀膜仪具有小型化、标准化的特点。磁...

高真空蒸发镀膜仪采用前开门真空室设计，室高增加到500mm。样品台与蒸发源之间的距离有较大的调节范围，可适应多种蒸发要求，避免样品在蒸发源中高处损坏。高真空蒸发镀膜仪配有四套钨舟蒸发源和水冷铜电极。每个蒸发源支持100A的大电流和1800°C的加热温度，可实现多层涂装或多种材料混合涂装。型腔采用上样品台，样品台可旋转、加热、升降，所有操作均可通过触摸屏集成控制。设备真空系统为两级旋片泵和涡轮分子泵组成的两级真空系统，可提供洁净无油的高真空环境。该设备配有气动阀门系统。通过操作...

多功能试样表面处理机是一种用于扫描电子显微镜和电子探针样品制备的设备。可在高纯氩气保护下进行多种离子处理。也可以对碳和金属进行真空蒸镀。该设备处理的样品既可用于样品的形貌观察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更适合。该设备采用分子泵和机械泵组成的高真空单元系统。试样以三种方式移动：平面旋转、倾斜旋转和倾斜进动。多功能试样表面处理机功能可以赋予材料新的表面特性。这些特性随时间逐渐衰减的特性称为老化。一般认为，等离子体表面处理对材料的影响涉及到表面活化、交联、表面蚀刻等多个...